什么是溅射性伤害（什么是溅射）

关于什么是溅射性伤害，什么是溅射这个问题很多朋友还不知道，今天小六来为大家解答以上的问题，现在让我们一起来看看吧！

1、4、溅射： 反射层下面的工序就是真空溅射反射层，溅射工艺也是在一体机里面完成的。

2、 其原理是将高纯度的铝做成圆形的"铝靶"，上下通正负极，中间真空并充填惰性气体。

3、当通电的时候，铝靶上的铝原子受电子冲击溅射到光盘的信息面上，从而形成一个反射层。

4、铝靶同光盘之间的距离很短，并有一对铜制的比光盘稍小的圆环，防止铝溅射到光盘以外。

5、 由于采用溅射的方法，每张光盘的反射层都很薄，仅有几个铝分子厚。

6、 铝靶的内部同样要求高度的清洁，因为任何杂质都会使光盘反射层出现"针眼"，或者杂质碳化造成黑点。

7、一般一个铝靶可以生产10万张光盘，但连续使用的铝靶能够生产更多的产品。

8、 前面我们提到的金盘是用铜合金或者金做反射层，如果采用铜合金作为反射层就不能采用溅射的方法了，而是将金粉或铜合金粉采用类似"喷粉"的方法涂附在光盘的信息面上。

9、除了铜合金本身价格高以外，这样的工艺不仅效率不高，而且损耗大，容易出现质量问题，所以这也是金盘价格高的另一个原因。

本文分享完毕，希望对大家有所帮助。

　　免责声明：本文由用户上传，与本网站立场无关。财经信息仅供读者参考，并不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。 如有侵权请联系删除！